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簡要描述：VTC-200-CE半柜式清洗機采用直線導軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來回掃動,同時配備有去離子水淸洗和氮氣吹干功能,采用高精度伺服電機控制 wafer的旋轉,由七寸全彩觸屏進行操作，全不銹鋼機柜,耐魔蝕透明觀察蓋,絲桿直線導軌,不銹鋼內腔,設計合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達控制旋轉速度和時間,自動控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復性好。
產(chǎn)品型號：廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2021-12-01訪 問 量：2841詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 地礦 |
VTC-200-CE半柜式清洗機采用直線導軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來回掃動,同時配備有去離子水淸洗和氮氣吹干功能,采用高精度伺服電機控制 wafer的旋轉,由七寸全彩觸屏進行操作，全不銹鋼機柜,耐腐蝕透明觀察蓋,絲桿直線導軌,不銹鋼內腔,設計合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達控制旋轉速度和時間,自動控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復性好。
1、不銹鋼半柜式設計，觸摸屏操作
2、透明觀察窗，帶排廢和抽風功能
3、可移動式直線導軌清洗，行程可定制
4、最多可配備四路清洗或氮氣吹干系統(tǒng)
5、可處理基片尺寸上限為8寸晶圓，向下兼容
6、更大尺寸可定制
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-200-CE半柜式清洗機 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-200-CE | |
| 主要參數(shù) | 1、旋轉速度可調范圍：20-10000rpm 2、加速度可調范圍：0-50000rpm/s 3、標配直線導軌行程：100mm；移動速度上限:100mm/s 4、標配兩路噴液系統(tǒng)，扇形或柱形噴嘴可選 5、標配10L不銹鋼壓力桶兩只，其它規(guī)格可選 6、清洗液或氮氣加溫系統(tǒng)可選配 | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：940mm(長)×800mm(寬)×1100mm（高） | |
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