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加熱臺(tái)主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺(tái)的加熱。

密封裝置主要用于在真空腔室上垂直安裝圓柱型元器件，安裝孔徑為19.2mm。

不銹鋼彎頭共2個(gè)接口，兩接口為90°垂直且共面分布，主要用于連接真空腔室與相關(guān)配件。

四通閥包含3個(gè)接口、1個(gè)閥門(mén)，呈垂直且共面分布，其中2個(gè)KF40接口、1個(gè)KF25接口（可根據(jù)用戶要求改制），主要用于連接真空腔室與分子泵及真空規(guī)管，如磁控濺射儀、蒸發(fā)鍍膜儀的高真空腔室。

VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為Ø50mm，加熱溫度達(dá)500℃。可濺射金、銀、銅三種靶材，不可以濺射輕金屬和碳。本機(jī)采用旋轉(zhuǎn)式樣品臺(tái)，能夠依次在同一樣品上涂覆三層薄膜，適用于實(shí)驗(yàn)室制備復(fù)膜的樣品。采用PLC控制面

GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀專門(mén)為在基底上鍍金屬膜（如金、鉑、銦、銀等）而設(shè)計(jì)，Z大放置樣品尺寸直徑為40mm，膜厚可達(dá)300Å，特別適用于為SEM樣品鍍金而作為導(dǎo)電極。